

產(chǎn)品描述
1.真空腔室:L400×W400×H450mm(具體尺寸以設計為準),立式方形、前、后開門結構,前開門向右推拉開(上下有導軌),方便鍍膜室與手套箱之間取、放樣品,1Cr18Ni9Ti 優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì),氬弧焊接;
2.基片臺:可抽拉式,尺寸120×120mm,可旋轉升降;基片可加熱至300±1℃(選配),配有基片臺擋板;
3.真空系統(tǒng):機械泵+分子泵;真空測量“兩低一高”數(shù)顯復合真空計組成;
4. 限真空:6.0×10-5Pa;
5.真空抽速:大氣~8×10-4Pa ≤ 25min;
6.金屬源:2-4組可選,配有擋板;
7.2-4組束源爐式結構,0-500度可調(diào),配有獨立擋板;
8.膜厚儀:膜厚儀水冷探頭安裝在基片架上基片臺附近。膜厚儀用以實時監(jiān)測鍍膜速率和終厚,精度可達±0.1A(0.01nm),具備與電源聯(lián)鎖功能,工作時,若鍍膜達到設置厚度,可自動切斷電源,停止鍍膜;
9.控制系統(tǒng):整套控制系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏控制,有自動及手動兩種功能,可在觸摸屏上輸入?yún)?nbsp; 數(shù)以便進行鍍膜工藝參數(shù)的摸索等;℃
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